China sortea las patentes de ASML con un truco láser: ¿ingeniería o trampa?

Un equipo de investigadores chinos ha presentado un método alternativo para la litografía de ultravioleta extremo (UVE), la tecnología clave para fabricar chips de menos de 7 nanómetros. El hallazgo, recogido por Xataka, describe un sistema que utiliza un truco con láseres para generar luz de 13,5 nm sin emplear los componentes protegidos por las más de 2.000 patentes de la neerlandesa ASML, la única empresa que hasta ahora fabrica estas máquinas.

Desde 2019, Estados Unidos ha presionado para que ASML no venda sus equipos más avanzados a China, lo que ha mantenido a los fabricantes chinos sin acceso a la litografía UVE. Cada máquina cuesta entre 200 y 400 millones de dólares, y ningún cliente chino ha logrado adquirir una. La nueva técnica, desarrollada por científicos del Instituto de Óptica y Mecánica Fina de Changchun, emplea un proceso basado en la excitación de un gas con un láser de alta potencia para generar el plasma necesario, evitando así los diseños patentados por ASML.

Aunque el método aún está en fase de laboratorio y requeriría años de desarrollo para alcanzar la precisión y productividad de las máquinas comerciales, representa un desafío directo al monopolio tecnológico de Occidente. Expertos consultados por el medio señalan que, si bien la idea no es nueva, el enfoque chino logra sortear las barreras legales sin violar patentes existentes. El avance se produce en un contexto de creciente tensión tecnológica entre China y Estados Unidos, que ha incluido sanciones, restricciones a la exportación y una carrera por la autosuficiencia en semiconductores.